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硅窗口片

硅主要用作3至5微米波段的光学窗口片,并用作生产光学滤波器和窗口片的子系统。
  • 产品产地:

    中国
  • 航运港口:

    中国福州
  • 交付周期:

    四周
  • 付款:

    银行电汇, 西联付款
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  • 描述

硅(Si)通过 Czochralski(CZ)提拉生长,由于包含一些氧化物,导致9微米波段有吸收。 为了避免这种情况,可以通过Float-Zone(FZ)提拉生长材料。 光学硅一般是少量掺杂(5至40欧姆厘米)以获得10微米以上的最佳透射率,通常掺杂是硼(P型)和磷(N型)。 掺杂之后,硅具有另一个通带:30至100微米,其仅在非常高电阻率未补偿材料中有效。

CZ硅通常用作1.5-8微米区域的红外反射器和窗口的基板材料。 由于9微米的强吸收带使其不适用于CO2激光传输应用,但由于其高导热性和低密度,它经常用于激光反射镜。

硅材质主要用于加工硅窗口片,硅透镜,应用波段为1.5-7um。硅反射镜用于CO2激光器和光谱仪。




硅窗口片主要规格


材料:               硅(Si)
尺寸公差: +0.0, -0.1mm
厚度公差: ± 0.1mm
光洁度: 60/40(标准产品) 
有效孔径: >85%
面型: λper 25mm@633nm
平行度: 3' 
倒角: <0.25mm X 45°
镀膜: 可定制




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