硅（Si）通过 Czochralski（CZ）提拉生长，由于包含一些氧化物，导致9微米波段有吸收。 为了避免这种情况，可以通过Float-Zone（FZ）提拉生长材料。 光学硅一般是少量掺杂（5至40欧姆厘米）以获得10微米以上的最佳透射率，通常掺杂是硼（P型）和磷（N型）。 掺杂之后，硅具有另一个通带：30至100微米，其仅在非常高电阻率未补偿材料中有效。
CZ硅通常用作1.5-8微米区域的红外反射器和窗口的基板材料。 由于9微米的强吸收带使其不适用于CO2激光传输应用，但由于其高导热性和低密度，它经常用于激光反射镜。
硅材质主要用于加工硅窗口片，硅透镜，应用波段为1.5-7um。硅反射镜用于CO2激光器和光谱仪。
硅窗口片主要规格
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